アルファで共同利用に供用している装置の一部を示します。
課金制度対象装置＊をご利用になる場合には事前に「利用申請・許可書」を提出下さい。
物理特性測定システム＊ PPMS（Physical Property Measurement System）
装置仕様：
日本カンタム・デザイン製
温度範囲：1.9K～400K
超伝導マグネット：縦型 7テスラ
横型：7テスラ
測定項目：電気特性、磁化特性、比熱測定
設置場所：第３物理実験室
テトラアーク炉＊ Tetra-arc Furnance
装置仕様：
ジー・イー・エス製 TAC-5100ACT
制御放電電流 0〜50A±0.05A
到達温度 2700℃
引き上げ速度 ０〜46㎜/h
シード及びハース回転速度 0〜10rpm
設置場所：第３化学実験室
走査型電子顕微鏡 SEM
装置仕様：
日本電子製 JSM-6390A
加速電圧 30kV
EDS分析装置
設置場所：測定室
CHNSO元素分析装置＊ CHNSO Elemental Analyser
装置仕様：
Thermo Quest製 Flash EA1112
分析元素 炭素、窒素、水素、硫黄、酸素
設置場所：測定室
粉末X線回折装置 XRD
装置仕様：
リガク製 MiniFlex Ⅱ
管電圧出力：30 kV（固定）
管電流出力：15 mA（固定）
X線管：Cu
統合粉末X線解析ソフトウェア PDXL
設置場所：第３物理実験室
単結晶構造解析装置＊ Single Crystal Structure Analysis
装置仕様：
リガク製 R-AXIS RAPID Ⅱ
X線発生装置 Mo封入管
イメージングプレート方式
構造解析ソフトウェア
吹付低温装置
設置場所：第３物理実験室
X線回折装置＊ ラウエカメラ Laue Camera
装置仕様：
トライ・エスイー製 TRY-IPX(E)
設置場所：冶金実験室
不活性雰囲気グローブボックス Inert-gas Glove Box
装置仕様：
独MBRAUN社製 MB130 B-G Labmaster
H2, O2 < 1 ppm
設置場所：第2化学実験室
不活性雰囲気グローブボックス Inert-gas Glove Box
装置仕様：
米VAC社製 System-2000M （GBX-001-S）
H2, O2 < 1 ppm
設置場所：第2化学実験室
ICP発光分析装置＊ ICP-AES
装置仕様：
島津製作所製 ICPS-7510
波長範囲 163 ~ 900 nm
測定元素 72元素
プラズマ観測方向 横方向、軸方向切換可能
設置場所：第2化学実験室
赤外分光装置 FT-IR
装置仕様：
BIO-RAD製 FTS 6000 Spectrometer
光源 セラミック光源
ビームスプリッタ KBrまたはマイラー膜
検出器 MCTまたはDTGS
角度可変ATRセル
波数範囲 7800 cm-1 ～ 200 cm-1
設置場所：測定室
ポテンシオスタット、および電気化学水晶振動子微小天秤 Potentiostat,Electrochemical Quartz Crystal microbalance
装置仕様：
北斗電工製 HZ-3000
電流検出最小レンジ：10 nA
水晶振動子コントローラHQ-101C
発振周波数：6 MHz
設置場所：第2化学実験室
透過型電子顕微鏡＊ TEM
Transmission Electron Microscopy
装置仕様：
日本電子製 JEM-2000FX
設置場所：電顕室